濕法刻蝕是利用化學溶液和晶圓表面的材料發(fā)生化學反應生成氣體、液體或者可溶于化學溶液的物質。去除需要刻蝕的部分，達到刻蝕的目的。濕法刻蝕主要包括三個基本過程，分別是濕法刻蝕、沖洗、甩烘干。濕法刻蝕清洗機按清洗的結構可分為槽式批量清洗和單片清洗機兩種類型，而槽式清洗可分為半自動清洗和全自動清洗兩種機臺。

    槽體可分為酸堿刻蝕槽、溢流清洗槽、快速排水槽和使晶圓快速干燥的干燥槽等，另外根據(jù)濕法工藝要求的不同，還可增加加熱或制冷、超聲、拋動、鼓泡、旋轉、循環(huán)等功能。加熱是通過加熱棒對反應液體進行快速加熱，以達到工藝所需溫度，提升濕法刻蝕速率；鼓泡是通過在反應液體中吹氣，形成氣泡，是液體與晶圓表面充分接觸提高工作效率；拋動和旋轉是通過機械臂使晶圓上下拋動，并旋轉晶圓，使其和反應液體充分均勻接觸，提高刻蝕速率均勻性。

    濕法刻蝕是一種純粹的 化學反應過程。優(yōu)點：1.應用范圍廣，適用于幾乎所有材料；2.選擇比大，易于光刻膠的掩蔽和刻蝕終點的控制；3.操作簡單，成本低，適宜于大批量加工。缺點：1.為各向同性腐蝕，容易出現(xiàn)鉆蝕；2.由于液體存在表面張力，不適宜于腐蝕極細的線條；3.化學反應時往往伴隨放熱與放氣導致腐蝕不均勻。

    常見的腐蝕液有氧化硅腐蝕液、硅腐蝕液、氮化硅腐蝕液、鋁腐蝕液等。