勻膠顯影問題

1、晶圓上的膠膜出現(xiàn)細(xì)微氣泡，一種在晶圓中心附近分布，一種在晶圓表面雜亂分布。工藝過程中氣體混入光刻膠是引起此現(xiàn)象的主要原因。首先，采用手動涂膠方式，檢查原始光刻膠中是否存在細(xì)微氣泡；其次，檢查整個膠路，重點檢查膠瓶罐、緩存罐、過濾器、膠泵以及噴頭的連接處是否存在光刻膠泄漏情況。打膠時，過濾器、膠路內(nèi)是否有氣泡產(chǎn)生，如有氣泡找到產(chǎn)生原因。涂膠工藝需要通過調(diào)節(jié)回吸閥把回吸降為零，減緩回吸閥的導(dǎo)通和關(guān)斷速度，降低膠泵打膠和回膠速度等方式進(jìn)行排查驗證。除此之外，可選擇動態(tài)旋涂方式，并且改變滴膠過程中晶圓的轉(zhuǎn)速，來避免涂膠工藝中出現(xiàn)氣泡。噴膠工藝還需檢查膠路單向閥性能是否完好，如出現(xiàn)氣體回吸情況，需清理單向閥。
2、晶圓的膠模上存在針孔或細(xì)微雜質(zhì)，非氣泡形貌。主要是由于涂膠或噴膠工藝中由環(huán)境的中的微粒污染物引起的。檢查設(shè)備的除塵排風(fēng)功能是否完好，定期需要更換空氣過濾裝置和光刻膠過濾器。
3、顯影異常：顯影針對正光刻膠和負(fù)光刻膠不同的顯影特性，采用不同的顯影液和沖洗液進(jìn)行顯影處理。顯影工藝中，軟烘時間與溫度、顯影液濃度、時間、溫度以及顯影方法都對顯影結(jié)果產(chǎn)生一定的影響。需要所有的參數(shù)進(jìn)行測試后，選擇工藝參數(shù)。
常見的顯影異常為：
（1）顯影不全。顯影不夠深導(dǎo)致晶圓表面還殘留需清除的光刻膠，由于顯影液不足造成；
（2）顯影不充分，顯影的側(cè)壁不垂直，開孔的側(cè)面出現(xiàn)內(nèi)凹，主要由于顯影時間不足造成；
（3）過顯影問題，靠近表面的光刻膠被顯影液過度溶解，形成臺階，顯影時間太長導(dǎo)致。顯影時間過長或者顯影液過多容易使得周圍光刻膠太薄，導(dǎo)致刻蝕中的斷裂或翹起。另外，維修過程中，一定注意非黃光的使用。避免因不正確的照射引起工藝問題。
4、熱烘異常：軟烘的主要參數(shù)是時間和溫度，二者會影響圖形定義好壞和刻蝕工藝中光刻膠與晶圓表面黏結(jié)性的質(zhì)量。軟烘時間或溫度異常，可能會導(dǎo)致膠膜出現(xiàn)龜裂；軟烘腔體內(nèi)的排氣不暢，會影響膠膜厚度的均勻性。烘烤不足，會減弱光刻膠的強(qiáng)度，降低針孔填充能力，降低與基底的黏附能力。烘烤過度則引起光刻膠的流動，使圖形精度降低，分辨率變差。