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      掩膜版涂膠機-愛姆加
          發(fā)布時間: 2020-10-08 18:56    

      此設(shè)備主要用于photomask 涂布工藝
      晶圓尺寸wafer size:12英寸(根據(jù)客戶晶圓選購)
      噴膠裝夾工具可選訂

      掩膜版涂膠機-愛姆加
      photomask coater     

      型號:M+-DS200C 主要特點:  

      適應(yīng)尺寸:200mm×200mm t=1-8mm以下方形基片

      具有旋涂、勻膠、清洗、吹氮功能

      主軸采用進口電機及部件

      高轉(zhuǎn)速、精度±1RPM

      FFU-THC功能(可選)

      相對于OLED、TFT的工藝的要求.

      掩膜版涂膠機
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