一、晶圓吸附的作用：

固定晶圓：在劃片機劃切過程中，晶圓需要被固定在吸盤上，以確保劃切過程的穩(wěn)定性和準確性。通過真空吸附或機械夾持，拋光頭可以將晶圓牢固地固定在位，防止其在拋光過程中發(fā)生移動或滑動。

保證表面平坦度：在拋光過程中，晶圓需要保持穩(wěn)定，以實現(xiàn)精確的拋光控制，從而保證所需的表面平坦度。通過晶圓吸附，可以減少因晶圓移動或滑動而導致的表面不平整等問題，提高拋光后晶圓的表面質(zhì)量。

施加壓力：在拋光過程中，通過施加壓力，拋光頭確保晶圓表面與拋光墊緊密接觸，促進均勻的材料去除。施加的壓力可以全局或局部調(diào)整，以適應不同的拋光要求，但需要確保壓力均勻分布，避免不均勻的拋光。

帶動晶圓旋轉(zhuǎn)：拋光頭本身可以旋轉(zhuǎn)，通過吸附作用帶動晶圓一起旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)的晶圓與拋光墊有一個相對運動速度，確保整個晶圓表面與拋光墊接觸的時間和強度均勻一致，有助于實現(xiàn)晶圓表面材料的均勻去除。

集成終點檢測：在CMP設備中，拋光頭集成了終點檢測技術(shù)，用于確定何時停止拋光，以避免晶圓材料被過度拋光。通過吸附作用與終點檢測技術(shù)的結(jié)合，可以提高CMP工藝的效率和精度。

二、晶圓吸附的類型：

機械真空吸附：通過真空泵創(chuàng)建負壓環(huán)境，真空泵用于從吸附區(qū)域抽氣，從而降低壓力，在晶圓與吸附盤之間產(chǎn)生真空區(qū)域。通常需要密封圈來確保吸附區(qū)域的密封，防止外界空氣進入。這樣可以產(chǎn)生足夠的吸力來穩(wěn)定地吸附晶圓。

優(yōu)點：

1.可靠性：能提供穩(wěn)定的吸附力，確保晶圓在加工過程中的穩(wěn)定性。

2.通用性：適用于不同尺寸和類型的晶圓，靈活性較高。

3.維護相對簡單：機械真空吸附系統(tǒng)較易維護。

缺點：

1.潛在的損傷風險：如果真空失效或操作不當，可能會損壞晶圓。

2.對超薄晶圓的適用性：對于極為脆弱或超薄的晶圓。

應用：

晶圓搬運：在半導體制造過程中，晶圓需要經(jīng)過多個加工步驟，每個步驟都需要將晶圓從一個工位搬運到另一個工位。真空機械吸附技術(shù)能夠穩(wěn)定、準確地吸附和搬運晶圓，確保其順利傳遞到下一個加工環(huán)節(jié)。

晶圓表面處理：在晶圓表面處理過程中，如涂膠、鍍膜等，真空機械吸附技術(shù)能夠提供穩(wěn)定的吸附力，使晶圓固定在處理設備上，確保處理過程的順利進行。

晶圓檢測：在晶圓檢測環(huán)節(jié)，真空機械吸附技術(shù)能夠?qū)⒕A穩(wěn)定地放置在檢測平臺上，以便進行各種檢測和觀察，如缺陷檢測、表面形貌分析等。

晶圓切割與劃片：在晶圓切割和劃片過程中，真空機械吸附技術(shù)能夠提供穩(wěn)定的吸附力，確保切割和劃片的精度和一致性。

晶圓封裝與測試：在晶圓封裝與測試環(huán)節(jié)，真空機械吸附技術(shù)能夠?qū)⒕珳实胤胖迷诜庋b盒中，并進行可靠的固定，以便進行后續(xù)的測試和驗證。