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      濕法刻蝕-Wet Etch
      刻蝕是整個IC制造中的工藝,是與光刻膠相聯(lián)系進(jìn)行圖像化處理的一種技術(shù),刻蝕過程需要控制刻蝕偏差,分為濕法刻蝕和干法刻蝕。文章介紹濕法知識。#半導(dǎo)體#光刻機(jī)#光刻膠#刻蝕機(jī)
      來源: | 作者:pmoe2a7d5 | 發(fā)布時間: 2024-01-03 | 1611 次瀏覽 | 分享到:

      濕法腐蝕機(jī)

      按照刻蝕方式和所使用的物質(zhì)不同,刻蝕可以分為干法刻蝕和濕法刻蝕兩類。

      濕法刻蝕: (Wet Etch)是一個純粹的化學(xué)反應(yīng)過程,是指將待刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進(jìn)行腐蝕的技術(shù)。

      優(yōu)點(diǎn):設(shè)備簡單、重復(fù)性好、成本低、刻蝕速度快、生產(chǎn)效率高;

      缺點(diǎn):具有各向同向,橫向刻蝕的寬度接近垂直刻蝕的深度,光刻膠下面會有刻蝕液的滲入,導(dǎo)致鉆刻嚴(yán)重,對圖形的控制性較差,不能用于小的特征尺寸,很難處理非常精細(xì)的電路圖:會產(chǎn)生大量的化學(xué)廢液;

      因?yàn)闈穹涛g存在不容忽視的刻蝕偏差,所以一般用于晶圓磨片、拋光、清洗等環(huán)節(jié)。


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