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設(shè)備實(shí)現(xiàn)2"-12"晶圓兼容
涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復(fù)功能
同片盒內(nèi)每個(gè)硅片可分別制定工藝運(yùn)行
產(chǎn)品特點(diǎn):
設(shè)備實(shí)現(xiàn)2"-12"晶圓兼容
涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復(fù)功能
同片盒內(nèi)每個(gè)硅片可分別制定工藝運(yùn)行
設(shè)備和各工位全封閉設(shè)計(jì),不受外環(huán)境干擾
可獨(dú)立增加層流罩,提升小環(huán)境潔凈度
干濕分離,電液分隔
維護(hù)省力、簡(jiǎn)便
一、使用領(lǐng)域: ?
IC半導(dǎo)體、LED、Bumping、化合物、SIC、光通訊、OLED、MEMS等
Wafer Size 晶圓尺寸:Φ2"-8"
Spin motor主軸轉(zhuǎn)速:0-8000rpm±1rpm
Uniformation膜厚均勻性:<0.5%
Temperation溫度均勻性:0-250℃±0.5℃
MTBF:≥1500小時(shí)Uptime:95%
二、涂膠單元 Coater Uint:
膠盤(pán):Teflon,Delrin
可編程移動(dòng)式滴膠
可配3路噴嘴
正/背面去邊清洗
主軸電機(jī):伺服電機(jī)(高速:8000rpm)
勻膠溫度控制(選配)
噴嘴預(yù)清洗(選配)
環(huán)境溫濕度控制(選配)
三、顯影單元 Developer:
膠盤(pán):Delrin
4路噴液(2 spray,1 streaam, 1 Dl water)
主軸電機(jī):伺服電機(jī)(高速:8000rpm)
背面清洗
滴液方式:膠泵或壓力罐
液體溫度控制(選配)
排風(fēng)控制
體積尺寸:1400mm(W)×1400mm(D)×1700mm(H)