愛姆加電子設(shè)備
勻膠顯影蝕刻專用設(shè)備生產(chǎn)商
誠信創(chuàng)新
精工
專注
專注成就品質(zhì)，品質(zhì)塑造未來！
Focus on the achievement of quality, quality to shape the future！?
新聞中心
涂膠顯影機(jī)工藝淺析
介紹了涂膠顯影機(jī)的基本工藝流程，包括涂底膠、烘烤、冷板等工藝流程，在實(shí)際應(yīng)用中，大部分都是基本流程的變異或者選項(xiàng)。
來源:愛姆加公司
|
作者:pmoe2a7d5
|
發(fā)布時(shí)間: 2020-03-27
|
2504 次瀏覽
|
分享到:
光刻工藝過程和膠卷相機(jī)比較接近，是一種多步驟圖形轉(zhuǎn)移過程。光刻過程把光罩（Mask）上的圖形轉(zhuǎn)到晶圓（wafer）上，由涂膠顯影機(jī)（Track）和光刻機(jī)（Scanner）共同完成的，是芯片制造過程中最重要的工序之一。涂膠顯影機(jī)（Track）的作用相當(dāng)于制作和沖印膠卷，而光刻機(jī)（Scanner）的作用相當(dāng)于照相機(jī)按快門照相（圖1）。本文中重點(diǎn)探討涂膠顯影機(jī)（Track）的工藝過程。?
???????? 工藝流程? ????????
涂布顯影機(jī)的基本流程：涂底膠（HMDS）?→冷板（Cooling?Plate）?→涂光刻膠旋涂（Spin?COT）?→軟烘烤（Soft?bake?or?PAB）?→冷板（Cooling?Plate）?→曝光（Exposure）?→曝光后烘烤（Post?Exposure?Bake）?→冷板（Cooling?Plate）?→顯影（Developer）?→硬烘烤（Hard?Bake）?→冷板（Cooling?Plate），以上工藝流程是一個(gè)基本的流程，然而，大部分都是基本流程的變異或者選項(xiàng)。
表面處理? ????????
涂底膠（HMDS）：底膠通過化學(xué)反應(yīng)把晶圓表面由親水性（Hydrophilic）改變?yōu)槭杷裕℉ydrophobic），進(jìn)而保證晶圓與光刻膠的良好粘接。目前廣泛使用的HMDS （hexamethyldislazane）是六甲基二硅胺烷（（CH3）?3SiNHSi（CH3）?3），將硅片表面的親水性氫氧根（OH）通過化學(xué)反應(yīng)置換為疏水的OSi（CH3）?
HMDS有旋轉(zhuǎn)和蒸氣兩種涂布方式：
HMDS在wafer表面只需要幾個(gè)分子的厚度，旋轉(zhuǎn)方式HMDS的耗量大，而蒸氣式用很少的量就可完成，這里只介紹蒸氣式的工作原理。利用N2把HMDS蒸汽帶入到加熱的腔體中，噴灑到Wafer表面保持一段時(shí)間，再通入N2把反應(yīng)的副產(chǎn)物和剩余的HMDS帶走排放到廢氣系統(tǒng)中（圖2）。通過測量晶圓（Wafer）表面水的接觸角（Contact?angle）來驗(yàn)證HMDS的涂布效果，一般要求大于65度。烘烤溫度和HMDS噴灑時(shí)間都會影響接觸角的大小。通常，加熱溫度125度，噴灑時(shí)間40秒。
中國西安市未央?yún)^(qū)石化大道南徐寨工業(yè)園愛姆加電子
15891750928 / 029-8362-7399
51252494@qq.com
15891750928 / 029-8362-7399
51252494@qq.com
COPYRIGHT ? 2011-2020. 陜西愛姆加電子設(shè)備有限公司
