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目前,在半導(dǎo)體制造時(shí),需要對(duì)硅片進(jìn)行顯影,在顯影時(shí)用到的涂膠顯影機(jī)如圖1所示,其工作原理如下:首先,硅片I被傳送到位于托盤3中心位置的吸盤2上,當(dāng)硅片I的中心位直與吸盤2的中心位直對(duì)齊時(shí),啟動(dòng)吸盤2吸住娃片I ;然后,在娃片I正面嗔涂顯影液,硅片I靜止顯影;最后,顯影完成后,吸盤2帶動(dòng)硅片I旋轉(zhuǎn),甩掉殘留物,顯影完成。在上述顯影過(guò)程中,涂覆到硅片I表面的顯影液很容易流到硅片I的背面,尤其是流到硅片I與吸盤2接觸的地方,造成硅片I背面沾污,被沾污部分的硅片會(huì)報(bào)廢,增加了半導(dǎo)體的制造成本。 實(shí)施例提供了一種涂膠顯影機(jī)及其使用方法,用以解決現(xiàn)有的涂膠顯影機(jī)在顯影時(shí)造成硅片沾污,增加半導(dǎo)體制造成本的問(wèn)題。本發(fā)明實(shí)施例提供的一種涂膠顯影機(jī),包括:托盤和位于所述托盤中心位置的吸盤,還包括:設(shè)置在所述托盤上的多個(gè)背洗孔,所述多個(gè)背洗孔圍繞在所述吸盤外側(cè),用于在硅片顯影完成后對(duì)所述硅片沖水,清洗所述硅片背面的顯影液。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種使用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述涂膠顯影機(jī)顯影的方法,包括:當(dāng)硅片的中心位置與涂膠顯影機(jī)的吸盤的中心位置對(duì)齊后,啟動(dòng)所述吸盤吸住所述硅片;在所述硅片正面噴涂顯影液顯影完成后,所述吸盤帶動(dòng)所述硅片旋轉(zhuǎn),同時(shí),所述涂膠顯影機(jī)的背洗孔對(duì)所述硅片沖水,清洗所述硅片背面的顯影液;在沖水完成后,所述吸盤帶動(dòng)所述硅片旋轉(zhuǎn),直至所述硅片背面的水全部甩干。本發(fā)明實(shí)施例的有益效果包括:本發(fā)明實(shí)施例提供的一種涂膠顯影機(jī)及其使用方法,包括:托盤和位于托盤中心位置的吸盤,還包括:設(shè)置在托盤上的多個(gè)背洗孔,多個(gè)背洗孔圍繞在吸盤外側(cè),用于在硅片顯影完成后對(duì)硅片沖水,清洗硅片背面的顯影液。由于本發(fā)明實(shí)施例提供的涂膠顯影機(jī)與現(xiàn)有技術(shù)中的涂膠顯影機(jī)相比,增加了圍繞在吸盤外側(cè)的多個(gè)背洗孔,能夠在硅片顯影完成后對(duì)硅片進(jìn)行沖水,清洗掉硅片背面的顯影液,避免了硅片背面沾污,提高了產(chǎn)品的良率,從而節(jié)約了半導(dǎo)體的制造成本