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      自動(dòng)QD噴涂設(shè)備
      量子點(diǎn)專用噴膠設(shè)備,主要用于在晶圓表面噴涂甲苯,設(shè)備密封;

      同時(shí)可噴涂四個(gè)基片,相不污染。自動(dòng)運(yùn)行完成噴膠工藝。

      設(shè)備主要由旋轉(zhuǎn)熱板系統(tǒng)、噴嘴掃描系統(tǒng)、流速控制系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成。
      來源: | 作者:pmoe2a7d5 | 發(fā)布時(shí)間: 2024-01-11 | 1520 次瀏覽 | 分享到:

      自動(dòng)QD噴涂機(jī),主要用于在晶圓表面噴涂甲苯、正己烷、UV液體,設(shè)備腔體密封,注入相應(yīng)壓力流量的氮?dú)猓獨(dú)庑柩h(huán)排放過濾使用。

      設(shè)備主要由升降片盒(兩個(gè)片盒平臺(tái))、中間布局機(jī)器人(負(fù)責(zé)晶圓的傳輸)、噴涂單元(配四套膠套-承片臺(tái)自動(dòng)旋轉(zhuǎn))、清洗單元(CUP自動(dòng)升降)、自動(dòng)加液、流速控制系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)、配手氣操箱的檢測(cè)部份裝置等組成,整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu),外表為優(yōu)質(zhì)不銹鋼護(hù)板,工作方式為自動(dòng)上下片,自動(dòng)完成噴膠、清洗、傳輸?shù)綑z測(cè)區(qū)的工藝。噴涂工藝流程:取片-對(duì)中-噴涂-見氧-清洗-排出。

      一、片盒介紹

      1.片盒單元加有密閉的緩沖腔體,每個(gè)部件都能承受氮?dú)馀c真空的條件,以及可手動(dòng)打開后,按啟動(dòng)按鈕完成腔體的排氧及進(jìn)氮功能;

      2.組成部份:升降固定板、片盒升降板、導(dǎo)桿、導(dǎo)線桿、電缸片盒板、片盒擋條、擋塊、卡條、按鈕傳感器;

      二、機(jī)械手介紹


      機(jī)械手單元主要用于在各單元間傳送晶片。采用高精度伺服電機(jī)控制同步帶驅(qū)動(dòng)機(jī)械手,以滿足機(jī)械手定位精度。保證晶圓對(duì)中準(zhǔn)確,不影響工作。機(jī)械手負(fù)責(zé)晶圓傳輸工作,從片盒到噴涂單元,再?gòu)膰娡繂卧角逑磫卧瑫r(shí)從清洗單元再傳輸?shù)綑z測(cè)區(qū)的片盒中,這個(gè)工藝順序是可以根據(jù)工藝菜單編輯;機(jī)械手單元主要用于在各單元間傳送晶片。采用高精度伺服電機(jī)控制同步帶驅(qū)動(dòng)機(jī)械手,以滿足機(jī)械手定位精度。保證晶圓對(duì)中準(zhǔn)確,不影響工作。

      三、噴膠單元

      (1) 四個(gè)二流體噴頭,四路供液系統(tǒng),每一路都可以單獨(dú)開啟關(guān)閉,每一路加流量監(jiān)控,磁力流量計(jì)加傳感器。氣路加流量計(jì)與潤(rùn)濕功能。

      (2) 噴頭流量范圍:1~30ml/min,流量在屏幕界面可以自由設(shè)置;

      (3) 配置一個(gè)噴涂坐標(biāo)校準(zhǔn)和預(yù)掃描功能(光打點(diǎn)定位輔助設(shè)定噴涂坐標(biāo));

      (4) 腔體外配置腳踏板開關(guān):用于手動(dòng)操作時(shí)噴涂單元真空和腔體排氣的開關(guān)。真空腳踏板為點(diǎn)動(dòng)開啟,點(diǎn)動(dòng)關(guān)閉,排氣腳踏板為踩下時(shí)排氣,腳松時(shí)停止排氣;

      (5) 調(diào)頻風(fēng)泵和手動(dòng)調(diào)節(jié)蝶閥控制噴涂作業(yè)時(shí)氣體循環(huán);

      (6) 噴頭霧化N2氣路和其他N2配置為獨(dú)立的廠務(wù)接口;

      (7) 腔體外配置排廢閥和廢液桶收集廢液;

      四、清洗系統(tǒng)

               清洗單元主要用于單片的清洗功能,噴嘴也有加自動(dòng)升降及旋轉(zhuǎn)功能,同時(shí)CUP實(shí)現(xiàn)升降功能,以便于取放晶圓;液體自動(dòng)供給,真空吸附基片。CUP有防濺及排液功能,排液留有球閥控制;主軸轉(zhuǎn)速可調(diào)調(diào)控。CUP材料為PP材質(zhì),同時(shí)液體有排液桶及報(bào)警功能,以便于處理液體。

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