歡迎您來(lái)到愛(ài)姆加電子設(shè)備有限公司官網(wǎng)，我們將竭誠(chéng)為您服務(wù)！
      



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      勻膠顯影蝕刻專(zhuān)用設(shè)備生產(chǎn)商
      



      



      



      


      誠(chéng)信創(chuàng)新
      


      專(zhuān)注
      


      精工
      


      專(zhuān)注成就品質(zhì)，品質(zhì)塑造未來(lái)！
      


      Focus on the achievement of quality, quality to shape the future！?
      


      




      

      


	
      半導(dǎo)體晶圓清洗機(jī)
      

          發(fā)布時(shí)間: 2020-11-25 17:09    
      

      

      基本尺寸規(guī)格：4/6/8寸標(biāo)準(zhǔn)晶圓，晶圓厚度80-100um
      RCW清洗設(shè)備的生產(chǎn)
      APM1#液去表面顆粒及金屬雜質(zhì)
      HPM2#液去金屬粒子
      設(shè)排風(fēng)風(fēng)壓檢測(cè)
      控制系統(tǒng)采用PLC控制，可通過(guò)通信協(xié)議指令控制
      整機(jī)元器件通過(guò)CE,CCC,或UL認(rèn)證，性能可靠穩(wěn)定








      


      




      
	
      
		
       
      
		
		
      
	
      
	  
      半導(dǎo)體晶圓清洗機(jī)
      
	
      
	
      
		
      
		
      
        
			
                 
			  
      
              
      
					
        
						
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      ·         APM1#液去表面顆粒及金屬雜質(zhì)
      ·         HPM2#液去金屬粒子
      ·         SPM3#液,去污及部分金屬
      ·         DHF去氧化層和金屬粒
                         QDR去離子水沖洗

      	
      
    
          
      
	   
	
		
	
	
      

          
      
     
      	


      





 

	  
	


 
  
	

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